- Panoramica
- Descrizione del prodotto
- Parametri del prodotto
- Foto dettagliate
- Profilo aziendale
- Imballaggio e spedizione
- FAQ
Informazioni di Base.
Descrizione del Prodotto
Rivestimento di placcatura con triplo canale di potenza al plasma target da 150 W c.c. macchina
1. Questo tipo di piccola macchina per spalmatura catodica al plasma adotta un metodo di spruzzatura catodica monostadio, ampiamente utilizzato per SEM
preparazione del campione o esperimento di rivestimento metallico.
2. Utilizzando il processo di spruzzatura catodica al plasma a bassa temperatura, non si ha alta temperatura durante il processo di rivestimento, il danno termico è
a malapena accade.
3. Questo piccolo spalmatore di plasma utilizza un sistema di controllo PLC + touch screen , facile da utilizzare. Uno stadio di campionamento girevole è
attrezzato.
4. Questo piccolo strumento per la polverizzazione catodica al plasma utilizza un sistema di controllo PLC + Tounch Screen, facile da apprendere e utilizzare.
5. Viene fornito con dimensioni ridotte, adatto per i processi di ricerca in laboratorio.
Specifiche del dispositivo di polverizzazione del plasma:
| Modello del prodotto | TN-PLZ180-III-DC-Q. | |
| Fase campione | Dimensioni | 100 mm |
| Distanza dallo stadio campione alla superficie target | altezza regolabile: 20~35 mm | |
| Velocità di rotazione | 1~20 giri/min regolabili | |
| Temperatura di riscaldamento | ≤500ºC | |
| Precisione del controllo della temperatura | ±1ºC controllo della temperatura PID | |
| Sorgente di polverizzazione del plasma | Quantità | 2 inchesx1/2/3 |
| Metodo di raffreddamento | Raffreddamento ad acqua/raffreddamento naturale | |
| Camera a vuoto | Dimensioni camera | φ180mm x 210 mm |
| Finestra osservazione | Visibilità omnidirezionale | |
| Materiale della camera | Quarzo ad alta purezza | |
| Metodo aperto | Coperchio superiore rimovibile | |
| Materiale del coperchio superiore e inferiore | acciaio inossidabile 304 | |
| Porta di pompaggio | KF16 | |
| Luce di aspirazione | connettore a ghiera da 1/4 pollici | |
| Configurazione dell'alimentazione | Quantità | Alimentatore c.c. x1 |
| Potenza di uscita | Max. 150 W. | |
| Potenza di sputtering | 1200 V. | |
| Corrente di sputtering max | 50 ma | |
| Sistema a vuoto | Tipo di pompa a vuoto | Pompa a vuoto rotativa a palette a doppio stadio |
| Porta di pompaggio | KF16 | |
| Interfaccia di scarico | KF16 | |
| Velocità di pompaggio | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
| Vuoto finale | ≥0,1 Pa | |
| Misurazione del vuoto | Vacuometro a resistenza | |
| Altri | Alimentazione | CA 220 V 50 Hz |
| Potenza totale | 1,5 kW/2 kW | |
| Quota | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
| Peso | 30 kg | |
1. Abbiamo target 1/2/3 di catacatero per la polverizzazione del plasma
2. Il supporto rotante, il sollevamento, il riscaldamento sono opzionali
L'alimentatore da 150 W, 300 W, 500 W CC o RF è opzionale 
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. È una società completa che integra design, ricerca e sviluppo, produzione e vendite.
I prodotti principali della nostra azienda sono: Spin coater, Thermal evaporation coater, magnetron sputter coater, plasma sputter coater, e-beam evaporation coater, Macchina per il rivestimento laser ad impulsi PLD, pulitore al plasma, sistema CVD, sistema PECVD, macchina per il taglio a filo diamantato, forno di fusione/stufa, forno di fusione ad arco, ecc.
I nostri prodotti sono ampiamente utilizzati nel campo della ricerca scientifica sui materiali. Abbiamo una cooperazione estesa con università nazionali, laboratori e nuove aziende di materiali. È stato esportato con successo in più di 20 paesi e regioni, inclusi Stati Uniti, Regno Unito, Germania, Russia, Svizzera, Canada, Brasile, ecc. e hanno stabilito rapporti di cooperazione a lungo termine con i commercianti locali.
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